本发明提供以低成本制造信息记录媒体用基板的制造方法,该信息记录媒体用基板具备用于以垂直磁记录方式等为代表的下一代信息记录媒体基板所要求的各种物理性质,尤其具有高断裂韧性和平滑表面。本发明的信息记录媒体用基板的制造方法,其包括对含有SiO
1.一种信息记录媒体用基板的制造方法,其包括对含有SiO₂成分、Al₂O₃成分以及R’₂O成分的、厚度为0.7mm~1.2mm的板状玻璃类材料进行准备的工序,R’₂O成分中的R’为Li、Na、K中的一种以上;以及对所述玻璃类材料进行研削的研削工序;所述研削工序仅由用固定有平均粒径为0.1μm~5μm的金刚石粒子的、所述金刚石粒子为10wt%以下的金刚石垫对所述玻璃类材料进行研削的工序构成;所述研削工序结束后的玻璃类材料的表面粗糙度Ra为
0.001μm~0.085μm。
2.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:所述研削工序具有用金刚石粒子的平均粒径为2μm~5μm的所述金刚石垫进行研削的子工序。
3.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:所述研削工序具有用金刚石粒子的平均粒径为0.1μm以上且不足2μm的所述金刚石垫进行研削的最终子工序。
4.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述玻璃类材料是将莫氏硬度为6以上且不足10的结晶作为晶相而析出的材料。
5.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:所述玻璃类材料含有选自MAl₂O₄及M₂TiO₄的一种以上物质作为主晶相,M为选自Zn、Mg、Fe中的一种以上;主晶相的结晶粒径为
0.5nm~20nm的范围,结晶度为15%以下。
6.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,所述玻璃类材料含有以下各成分:SiO₂:40~60%、以及Al₂O₃:7~20%、以及R’₂O:2~15%,R’为选自Li、Na、K中的一种以上。
7.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,所述玻璃类材料含有以下各成分:TiO₂:1~15%、以及RO:5~35%,R为选自Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Fe中的一种以上。
8.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,所述玻璃类材料含有5~25%的ZnO成分。
9.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研削工序使用在上下平盘之间保持被研削材料并进行研磨的双面加工机,其最大加工压力为3kPa~6kPa。
10.如权利要求1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研削工序中的加工率为5μm/分钟以上。
11.如权利要求1至10中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其具有在研削工序后进一步对所述玻璃类材料进行研磨的研磨工序,所述研磨工序在研磨浆料的pH值为1~5或者9~13的范围内进行研磨。
12.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序包含一个阶段的工序。
13.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序包含至少两个阶段的子工序,第一阶段的子工序中所使用的研磨浆料的pH值为9~13的范围。
14.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序的至少一个子工序中所使用的研磨浆料含有氧化铈游离磨粒。
15.如权利要求14所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述氧化铈游离磨粒的平均粒径为0.3μm~1μm。
16.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序用含有硅胶的游离磨粒作为至少一个子工序中所使用的研磨浆料。
17.如权利要求16所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述硅胶游离磨粒的粒径为10nm~100nm的范围。
18.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序使用在上下平盘之间保持被研磨材料并进行研磨的双面加工机,其最大加工压力为8kPa~15kPa。
19.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序中的加工率为0.05μm/分钟~1μm/分钟。
20.如权利要求11所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,所述研磨工序结束后的表面粗糙度Ra为1.5ntent="drawing" img-format="tif" inline="yes" orientation="portrait" wi="43"/>以下。技术领域
本发明涉及信息记录媒体用基板的制造方法,该信息记录媒体用基板具备用作将来的信息记录媒体基板所必要的物理性质,即,适应将来的信息磁记录媒体的高密度化,具有低比重和高杨氏模数,断裂韧性优异,并且加工后的表面粗糙度极光滑,磁头滑动特性及耐冲击特性优异。应予说明,本发明中“信息记录媒体”是指,能在各种电子装置用硬盘中使用的磁信息记录媒体。
背景技术
近年来,为了处理个人电脑、各种电子装置中动画、声音等大数据,需要大容量的信息记录装置。因此,信息磁记录媒体对高记录密度化的要求逐年提高。为了适应这种要求,在下一代垂直磁记录方式中,与现有的基板相比,在基板的耐热性、表面平滑性方面要求更高的水平。此外,在为了减轻主轴电动机负担而具备低比重、为了防止磁盘碰撞而具备高机械强度、以及为了能够耐受落下时与磁头的冲击而具备高断裂韧性这些方面至今也很重要。而且,近年来,一部分硬盘市场正逐渐被使用U盘的信息记录装置即SSD(solidxa0statexa0drive)所取代,因此,为了针对SSD的优势即存储容量平均单价的优势来吸引购买者,需要进一步缩减制造成本。信息记录媒体用基板中所使用的材料包括Al合金基板、玻璃基板及晶化玻璃基板等。由玻璃或晶化玻璃制成的玻璃类材料基板,在维氏硬度高、表面平滑性高等方面比Al合金基板有优势,因此现在多被用于设计了动态使用的用途。玻璃类材料基板通常采用以下方法来制造。即,熔融玻璃原料以形成熔融玻璃,使该熔融玻璃形成板状。其中,作为使熔融玻璃形成板状的方法,包括对熔融玻璃进行冲压的直压(directxa0press)法、漂浮(float)法。在晶化玻璃的情况下,通过对该板状玻璃进行热处理,使板状玻璃内部析出结晶。接着,将板状玻璃或者晶化玻璃加工成盘状,为了使板厚度、平坦度接近最终形状而进行研削工序、为了得到平滑表面性状而进行研磨工序,以制作玻璃基板或者晶化玻璃基板。以往,通常使用游离磨粒法、固定磨粒法来进行研削工序。其中,游离磨粒法是在上下平盘之间保持板状玻璃,一边向研削液供给含有游离磨粒的浆料,一边使平盘和板状玻璃旋转进行相对移动的方法。固定磨粒法是使用树脂、金属、陶瓷等粘合剂使金刚石微粉形成颗粒(pellet),一边向配置有多个该颗粒的平盘提供研削液(冷却液)一边使平盘和板状玻璃旋转进行相对移动的方法。研磨工序是通过以下方法进行的:使用粘贴了研磨垫的平盘,与研削工序相同,在上下平盘之间保持板状玻璃,一边供给包含含有氧化铈等游离磨粒的浆料一边旋转平盘和板状玻璃进行相对移动。通常,研削工序及研磨工序都分为多个阶段进行,每经过一个阶段,磨粒就会减小。按照这种以往的制造方法,如果要制作适应下一代磁记录方式的基板,则会产生以下问题。例如在晶化玻璃基板的情况,玻璃相析出的晶相种类、结晶粒径、结晶量等对机械强度有较大影响。如果利用这一点,为了提高机械强度而控制结晶粒径、结晶量,或者使析出的晶相为硬度高的结晶,则会产生研削和研磨的加工率明显变差、或者难以得到期望的平滑表面的问题。加工率变差是对增加制造成本影响较大的因素。专利文献1中公开了由具有锌尖晶石晶相的晶化玻璃制成的信息记录媒体用基板。如果在该文献所公开的晶化条件下进行结晶化则可得到高结晶度的基板。其机械强度高,且具有较高的断裂韧性,但研磨后的表面粗糙度不能满足下一代信息记录媒体用基板所要求的水平。而且,表面硬度过高导致研削工序和研磨工序的加工率低,并且研削加工和研磨加工需要较长时间。因此,信息记录媒体用基板的生产性差,无法满足市场所要求的生产成本。过去也曾提出过,将以尖晶石类化合物或者它们的固溶体为主晶相的晶化玻璃作为具有高机械强度的材料,用于信息记录媒体基板用途、建筑材料用途。但是,以往认为为了具有高机械强度,必须提高结晶度。因此,过去提出的锌尖晶石类晶化玻璃会析出不透过可见光程度的结晶,以往的加工方法中无法得到适用于下一代信息记录媒体用基板的表面性状。专利文献2公开了由具有顽火辉石晶相的晶化玻璃制成的信息记录媒体用基板。即使采用以往的加工方法对该文献所公开的晶化玻璃进行加工,不但研削工序的加工率低,而且研磨工序后的表面性状Ra为0.2nm~0.3nm,因此,无法得到平滑面。专利文献1:日本特开平07-300340号公报专利文献2:日本特开2004-220719号公报
发明内容
本发明的目的在于提供以低成本制造信息记录媒体用基板的制造方法,该信息记录媒体用基板具备用于以垂直磁记录方式等为代表的下一代信息记录媒体基板所要求的各种物理性质,尤其具有高断裂韧性和平滑表面。本发明人等为实现上述目的进行了反复深入的试验研究,结果发现通过以下制造方法可以解决上述问题,从而完成了本发明。即该制造方法包括:选择含有SiO₂成分、Al₂O₃成分以及R’₂O成分(R’为Li、Na、K中的一种以上)的板状玻璃作为玻璃类材料,准备该玻璃类材料的工序;用金刚石垫对该板状玻璃类材料(以下有时仅称作“玻璃类材料”)进行研削的研削工序。具体而言,本发明提供以下制造方法。(结构1)一种信息记录媒体用基板的制造方法,其包括对含有SiO₂成分、Al₂O₃成分以及R’₂O成分(R’为Li、Na、K中的一种以上)的板状玻璃类材料进行准备的工序;以及对上述玻璃类材料进行研削的研削工序;上述研削工序至少具有用金刚石垫(diamondxa0pad)对上述玻璃类材料进行研削的子工序。(结构2)结构1所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:用上述金刚石垫进行研削的子工序,是用金刚石粒子的平均粒径为0.1μm~5μm的金刚石垫进行研削的工序。(结构3)结构2所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:用上述金刚石垫进行研削的子工序,是用金刚石粒子的平均粒径为2μm~5μm的金刚石垫进行研削的工序。(结构4)结构2所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:用上述金刚石垫进行研削的最终子工序,是用金刚石粒子的平均粒径为0.1μm以上且不足2μm的金刚石垫进行研削的工序。(结构5)结构1至4中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述玻璃类材料是将莫氏硬度为6以上且不足10的结晶作为晶相而析出的材料。(结构6)结构1至5中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:上述玻璃类材料含有选自MAl₂O₄及M₂TiO₄(M为选自Zn、Mg、Fe中的一种以上)中的一种以上物质作为主晶相,主晶相的结晶粒径为0.5nm~20nm的范围,结晶度为15%以下。(结构7)结构1至6中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,在上述研削工序中,使最终研磨结束后的目标厚度为t1、加工时上述玻璃类材料的厚度为t2时,在t2/t1≤1.2的情况下,至少含有全部用金刚石垫进行研削的子工序。(结构8)结构1至7中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,上述玻璃类材料含有以下各成分:SiO₂:40~60%、以及Al₂O₃:7~20%、以及R’₂O:2~15%、(R’为选自Li、Na、K中的一种以上)。(结构9)结构1至8中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,上述玻璃类材料含有以下各成分:TiO₂:1~15%、以及RO:5~35%(R为选自Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Fe中的一种以上)。(结构10)结构1至9中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,上述玻璃类材料含有5~25%的ZnO成分。(结构11)结构1至10中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研削工序,使用在上下平盘之间保持被研削材料并进行研磨的双面加工机(両面加工機),其最大加工压力为3kPa~6kPa。(结构12)结构1至11中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研削工序中的加工率为5μm/分钟以上。(结构13)结构1至12中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研削工序结束后的表面粗糙度Ra为0.001μm~0.085μm。此外,为了实现上述目的,本发明人等进行了反复深入的研究,结果发现通过选择含有SiO₂成分、Al₂O₃成分及R’₂O成分(R’为Li、Na、K中的一种以上)的板状玻璃类材料作为玻璃类材料,在具有特定范围pH值(氢离子浓度)的研磨浆料中对板状玻璃类材料进行研磨,可以解决上述问题。本发明进一步提供以下制造方法。(结构14)一种信息记录媒体用基板的制造方法,包括对含有SiO₂成分、Al₂O₃成分、R’₂O成分(R’为Li、Na、K中的一种以上)的板状玻璃类材料进行准备的工序;对上述玻璃类材料进行研削的研削工序;对上述玻璃类材料进行研磨的研磨工序;其中,上述研磨工序在研磨浆料的pH值为1~5或者9~13的范围内进行研磨。应予说明,这里所指的“研削工序”可以是结构1至13中所述的研削工序。(结构15)结构14所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序包含一个阶段的工序。(结构16)结构14所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序包含至少两个阶段的子工序,在第一阶段的子工序中所使用的研磨浆料的pH值为9~13的范围。(结构17)结构14至16中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序的至少一个子工序中所使用的研磨浆料含有氧化铈游离磨粒。(结构18)结构14至17中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述氧化铈游离磨粒的平均粒径为0.3μm~1μm。(结构19)结构14至18中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序使用含有硅胶的游离磨粒作为至少一个子工序中所使用的研磨浆料。(结构20)结构14至19中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述硅胶游离磨粒的粒径为10nm~100nm的范围。(结构21)结构14至20中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其特征在于:上述玻璃类材料是含有选自MAl₂O₄及M₂TiO₄(M为选自Zn、Mg、Fe中的一种以上)中的一种以上物质作为主晶相,主晶相的结晶粒径为0.5nm~20nm的范围,结晶度为15%以下,比重为3.00以下的晶化玻璃。(结构22)结构14至21中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,上述玻璃类材料含有下列各成分:SiO₂:40~60%、以及Al₂O₃:7~20%、以及R’₂O:2~15%、(R’为选自Li、Na、K中的一种以上)。(结构23)结构14至22中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,上述玻璃类材料含有下列各成分:TiO₂:1~15%、以及RO:5~35%(R为选自Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Fe中的一种以上)。(结构24)结构14至23中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%计,上述玻璃类材料含有5~25%的ZnO成分。(结构25)结构14至24中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序使用在上下平盘之间保持被研磨材料并进行研磨的双面加工机,其最大加工压力为8kPa~15kPa。(结构26)结构14至25中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序中加工率为0.05μm/分钟~1μm/分钟。(结构27)结构14至26中任一项所述的信息记录媒体用基板的制造方法,其中,上述研磨工序结束后的表面粗糙度Ra为1.5ntent="drawing" img-format="tif" inline="yes" orientation="portrait" wi="44"/>以下。根据本发明,即使是用作下一代信息记录媒体基板所要求的各种高机械强度的基板,也可缩短研削工序中的加工时间。并且,由于研削工序结束后的表面粗糙度Ra值较小,因此在研磨工序中只需较少的为了得到期望Ra值的必要工序即可完成,因而研磨工序中的加工时间也变短。并且,即使是这种高机械强度的基板,在研磨工序中也可以高加工率进行研磨,并且,通过研磨工序可得到高平滑性的表面性状。因此,与以往的方法相比,本发明可以以低成本制造信息记录媒体用基板,该信息记录媒体用基板具备用于以垂直磁记录方式等为代表的下一代信息记录媒体基板所要求的各种物理性质,尤其具有高断裂韧性和平滑表面。
附图说明
图1为采用本发明的制造方法得到的信息记录媒体用基板表面的AFM图像。图2为采用本发明的制造方法得到的信息记录媒体用基板表面的AFM图像。图3为表示本发明的信息记录媒体用基板的耐酸性(HNO₃水溶液)、耐水性、耐碱性(NaOH水溶液)的图表,实线为G2,双点划线为G3,虚线为G4。
具体实施方式
本发明中,“主晶相”是指在XRD衍射中与主峰(最高峰)相对应的晶相。“结晶度”是采用Rietveld法将由粉末XRD(X-rayxa0diffraction)法得到的衍射强度计算出的结晶量(质量%)合计而得的。关于Rietveld法,采用日本结晶学会“结晶解析ハンドブツク”编辑委员会编,《结晶解析ハンドブツク》,共立出版株式会社,1999年9月,p.492-499所记载的方法。“结晶粒径”是通过TEM(透射电子显微镜)在倍率100000~500000倍下取得任意部位的图像,当用两条平行直线夹着在所得的图像中显示出的结晶时的最长距离的平均值。此时n数为100。“最大结晶粒径”是通过TEM(透射电子显微镜)在倍率100000~500000倍下取得任意部位的图像,当用两条平行直线夹着在所得的图像中显示出的结晶时的最长距离的最大值。此时n数为100。“Ra”是由JISxa0B0601规定的表面平均粗糙度。维氏硬度是表示基板表面的硬度的值,具体而言,是采用以下方法测定所得的值。即,用相对面夹角为136°的正四棱锥形金刚石压头(金刚石四ntent="drawing" img-format="tif" inline="yes" orientation="portrait" wi="55"/>すい圧子)以4.90N的负荷压入15秒,通过试验负荷4.90(N)除以由压痕凹处的长度计算出的表面积(mm²)而求出维氏硬度。可以使用(株)明石制作所制的微小硬度计MVK-E进行测定。莫氏硬度是根据对标准物质造成的损伤将硬度数值化的值。具体而言,用标准物质依次刻划试样时,如果试样损伤,则测定为硬度低于该标准物质。按照由软到硬的顺序指定1至10的标准物质。具体而言,1为滑石(talcum)、2为石膏、3为方解石、4为萤石、5为磷灰石、6为正长石、7为石英、8为黄玉、9为刚玉、以及10为金刚石。作为下一代信息记录媒体用基板所需要的物理性质,概括为以下几点。[杨氏模数]在信息记录媒体磁盘基板领域中,为了提高数据传送速度,正在推进记录媒体磁盘基板的高速旋转化、高记录密度化,对应于该趋势,为了防止基板材高速旋转时的弯曲所引起的磁盘震动,基板材必须刚性高且比重低。并且,特别是用于可移动记录装置这样的携带型记录装置时,优选具有能充分耐受与磁头接触的机械强度、高杨氏模数及表面硬度。即,杨氏模数优选为85GPa以上。[杨氏模数[GPa]/比重]信息记录媒体用基板,如果仅是刚性高而比重大,则由于其重量大,高速旋转时会发生弯曲、或者发生振动。反之,如果比重低而刚性小,则同样会发生振动。另外,重量的增加会导致功率消耗增加的问题。并且,如果比重过低,则会导致难以得到所需机械强度。因此,必须取得具有高刚性且低比重这样看上去相反特性的平衡。此外,为了适应今后的高速旋转化,优选的范围是,以杨氏模数[Gpa]/比重所表示的值为31.4以上。[断裂韧性]断裂韧性是表示对以基板表面微小伤痕为基点裂缝扩散的耐受性的指标。特别是,下一代硬盘中所使用的信息记录媒体用基板中,磁盘旋转速度有高速化的倾向,因此,需要具有高断裂韧性。断裂韧性(K_1C)是采用SEPB法(Singlexa0Edgedxa0Pre-crackedxa0Beam:予裂缝导入破坏试验法,JISxa0R1607)而得的值。为了能适用于下一代信息记录媒体用基板,断裂韧性的值K_1C优选为1.0以上、更优选为1.1以上、最优选为1.2以上。[比重]为了更好地平衡根据本发明的制造方法制造的基板的刚性和比重,基板的比重优选为3.00以下、更优选比重为2.95以下、最优选为2.90以下。另一方面,如果比重低于2.45,则实质上难以得到具有期望刚性的基板,比重优选为2.45以上、更优选为2.48以上、最优选为2.50以上。作为能够实现上述物理性质的玻璃类材料,本发明中选择SiO₂成分、Al₂O₃成分、R’₂O成分(R’为Li、Na、K中的一种以上)的玻璃或者晶化玻璃。并且在研削工序中的至少一个子工序中,通过用金刚石垫对该玻璃类材料进行研削,可提高研削工序的加工率,在短时间内进行加工。并且,可减小研削工序结束时表面粗糙度Ra值。因此,能够缩短研磨加工中达到期望的表面粗糙度的加工时间,从而能够缩短整体的加工时间。此外,对玻璃类材料进行研削后,通过使研磨工序中使用的研磨浆料的pH值在1~5或者9~13的范围内来进行研磨,可得到加工率高和非常平滑的表面性状。在玻璃等研削加工的本领域技术人员之间,金刚石垫也被称作金刚石片(sheet),是将金刚石磨粒固定在具有可挠性的片状树脂上。在金刚石垫的表面设置有用于向研削面供给冷却液并且排出研削屑的沟。上述沟设计成格子状、螺旋状、放射状、同心圆状或它们的组合形状。本发明的研削工序可以分为多个子工序,但至少在一个子工序中,优选在最终的子工序中,优选用被固定的金刚石磨粒的平均粒径为2μm~5μm的金刚石垫进行研削。通过用这样的金刚石垫进行研削,不会使加工率变差并且能够使研削工序结束后表面粗糙度Ra值变小,因此可缩短包含研削工序、研磨工序的加工时间。为了得到上述效果,更优选的金刚石磨粒的平均粒径为2μm~4.5μm。固定于金刚石垫上的金刚石磨粒,优选为10wt%以下。此时,在最终子工序之前的子工序中,优选使金刚石垫的磨粒的平均粒径为6μm~10μm的范围。并且,在省略以往进行的第一阶段的研磨工序(粗研磨工序)的情况下,在研削工序的最终子工序中,优选的是用金刚石磨粒平均粒径为0.1μm以上且不足2μm的金刚石垫对玻璃类材料进行研削。以往,在研削工序后的研磨工序中分为两个阶段以上,在每个阶段一边更换磨粒的种类及平均粒径等一边进行加工。此时,如果可以省略粗研磨工序则可缩短制造工序,从而能够大幅降低成本。本发明中,在研削工序的最终子工序中,通过用金刚石磨粒的平均粒径为0.1μm以上且不足2μm的金刚石垫进行研削,可以一边维持研削工序所要求的加工速度,一边在粗研磨工序得到必要的表面平滑性,因此可以省略粗研磨工序。例如,研磨工序即使仅有一个阶段也可得到作为信息记录媒体用基板所必要的表面性状。其中,金刚石磨粒的平均粒径更优选为0.2μm以上1.8μm以下。特别是在对后述的玻璃类材料(1)进行加工时该效果显著。认为其原因之一是,后述的玻璃类材料(1)具有被金刚石垫研削时不易产生划痕的性质的被研削性。此时,虽然不是必须的,但为了提高整体加工效率,在研削工序的最终子工序之前的子工序中,优选用金刚石磨粒的平均粒径为2μm~5μm的金刚石垫进行研削。因此,在研削工序中使用的金刚石垫,可以使用被固定的金刚石磨粒的平均粒径为0.1μm~5μm的金刚石垫。其中,固定于金刚石垫的金刚石磨粒的平均粒径,可以使用由激光衍射散射法(レ一ザ一回折錯乱法)测定的体积基准的d50值。通常,通过在制造阶段所控制的金刚石磨粒的粒径分布来掌握金刚石磨粒的平均粒径,但也可以通过用药液溶解金刚石垫等方法仅取出金刚石磨粒来进行测定。玻璃类材料为晶化玻璃时,玻璃类材料更优选的是莫氏硬度为6以上且不足10的结晶作为晶相而析出的材料。使用金刚石垫对被研削材料进行研削时,由于被研削材料的研削屑会在金刚石垫上发生堵塞(目詰まり)。并且,随着研削工序进一步进行,露出金刚石垫表面的金刚石粒子的形状成为圆形。如上所述通过用金刚石垫对用莫氏硬度规定了晶相的结晶粒子的玻璃类材料进行研削,可实现将因研削而从晶化玻璃脱离的结晶粒子堵塞于金刚石垫表面的研削屑从金刚石垫排除的效果、实现使露出表面的金刚石粒子的形状为锐角的修饰效果,因此可提高玻璃类材料的加工率。为了得到更好的上述效果,晶相中所含有的结晶的莫氏硬度更优选为超过6、最优选为7以上。但是,如果莫氏硬度过高,则通过提高玻璃类材料的硬度来降低玻璃类材料的加工率,同时在玻璃相与晶相的加工率之间产生较大差值,导致难以得到平滑面。因此,晶相的结晶的莫氏硬度最优选为9以下。特别是,玻璃类材料为非晶形玻璃时,在最终研磨结束后的薄于玻璃类材料厚度(目标厚度)1.2倍范围内的研削工序中,优选的是不用金刚石颗粒进行研削或用砂挂法(砂かけ法)进行研削,而仅用金刚石垫进行研削。即,在研削工序中,当使该目标厚度为t1、加工时玻璃类材料的厚度为t2时,在t2/t1≤1.2的情况下,优选全部使用金刚石垫进行研削。在非晶形玻璃的情况下,如果在薄于该目标厚度1.2倍的范围内用金刚石颗粒进行研削或用砂挂法进行研削,则研削工序结束后进行研磨工序之前的表面粗糙度不够充分,从而延长了之后的研磨工序的加工时间,因此难以得到下一代基板所必需的表面粗糙度。以下,对含有上述SiO₂成分、Al₂O₃成分及R’₂O成分的板状玻璃类材料的组成进行说明。在对本说明书中构成玻璃类材料的各组成成分进行说明时,如果没有特别说明,则各成分的含量以氧化物基准的质量%计。其中,“氧化物基准”是指,假设作为本发明的玻璃类材料构成成分的原料而使用的氧化物、碳酸盐等在熔融时全部被分解转化为所记载的氧化物,表示玻璃类材料中所含各成分的组成的方式,该方式以该生成的氧化物的质量总和为100质量%,表示玻璃类材料中所含的各成分的量。[玻璃类材料(1)]玻璃类材料(1)是将选自MAl₂O₄及M₂TiO₄(M为选自Zn、Mg、Fe中的一种以上)中一种以上物质(以下也称作“尖晶石类化合物”)作为主晶相的晶化玻璃。在X射线衍射分析中,锌尖晶石和铝镁尖晶石(MgAl₂O₄)的峰表现为相同角度,因此难以区分两者。这与R₂TiO₄的情形也相同。推测这些情况下,在晶化玻璃的组成即原玻璃的组成中,如果ZnO成分与MgO成分的含量相比ZnO成分较多,则锌尖晶石(ZnAl₂O₄)或者钛酸锌化合物(Zn₂TiO₄)为主晶相。含有尖晶石类化合物的结晶,莫氏硬度为8,因此在对以尖晶石类化合物为主晶相的晶化玻璃进行研削时,上述金刚石垫的修饰效果特别显著,晶化玻璃的加工率显著提高,故优选。本发明的玻璃类材料,特别优选的是析出结晶的结晶度为1%~15%、结晶粒径为0.5nm~20nm的晶化玻璃。以尖晶石类化合物为主晶相的晶化玻璃,如上所述,铝镁尖晶石具有自身莫氏硬度为8的优势,因此可得到优异的机械强度。并且,析出结晶的结晶度(含主晶相以外的析出结晶)和结晶粒径为上述范围时,通过在研削工序中使用本发明规定的金刚石垫,可平衡良好地得到下一代信息记录媒体用基板所要求的表面平滑性和杨氏模数、维氏硬度及断裂韧性等机械强度,此外通过在研削工序中良好地平衡金刚石垫的修饰效果和加工率,能够以高加工率对玻璃类材料进行加工。如果结晶度过大,则难以得到期望的表面性状,与玻璃相相比,硬的晶相增多导致加工率容易变差。因此,为了得到上述效果,结晶度更优选为14%以下、最优选为13%以下。同样,结晶粒径更优选15nm以下、最优选为10nm以下。同样,为了得到上述效果,主晶相的最大粒径优选为30μm以下、更优选为20μm以下、最优选为15μm以下。SiO₂成分是为了形成玻璃网状结构、提高化学稳定性或实现低比重化所必须含有的成分。SiO₂的量不足40%时,得到的玻璃缺乏化学耐久性,并且随着其它成分含量的增加比重逐渐增大。因此,SiO₂含量的下限优选为40%,更优选为41%,最优选为42%。如果超过60%则随着粘性的增加,溶解及加压成形容易变得困难,而且材料的均匀性、澄清效果容易降低。因此,含量的上限优选60%,更优选为59%,最优选为58%。Al₂O₃成分是通过对原玻璃进行热处理而构成主晶相的成分之一,是有助于玻璃稳定化、提高化学耐久性的重要成分,其含量不足7%时缺乏该效果。因此,含量的下限优选为7%,更优选为9%,最优选为11%。并且,如果超过20%则反而溶解性、成形性及耐失透性变差,而且均匀性、澄清效果容易下降。因此,含量的上限优选为20%,更优选为19%,最优选为18%。RO成分(R选自Mg、Ca、Sr、Ba、Zn以及Fe中的一种以上)含有通过原玻璃的热处理而构成主晶相的成分,是分别有助于玻璃稳定化的重要成分。然而,如果其总量不足,则原玻璃的粘性变高而损害批量生产性,而且无法得到所需晶相。因此,含量的下限优选为5%,更优选为8%,最优选11%。另一方面,如果总量超过35%,则不仅玻璃化变得困难,还会导致未溶物析出、失透温度升高。因此,含量的上限优选为35%,更优选为33%,最优选为31%。ZnO成分是对原玻璃进行热处理而形成的主晶相的构成成分之一,是有助于玻璃的低比重化和杨氏模数提高并且对玻璃的低粘性化也有效的成分。但是,如果其含量不足5%,则无法得到上述效果。因此,含量的下限优选为5%,更优选为6%,最优选为8%。并且,如果ZnO成分的含量超过25%,则由原玻璃析出的结晶变得不稳定,结晶粒子容易粗大化。因此,含量的上限优选为25%,更优选为23%,最优选为21%。MgO成分是有助于玻璃的低比重化和提高杨氏模数的成分,并且是对玻璃的低粘性化也有效的成分,是可任意添加的成分。但是,如果其含量超过15%,则提高原玻璃的比重不仅难以得到所需玻璃,而且会导致不溶物析出。因此,含量的上限优选为15%,更优选为14%,最优选为13%。FeO成分是对原玻璃进行热处理而形成的主晶相的构成成分之一,与Al₂O₃成分、TiO₂成分共同生成尖晶石类化合物。并且,是作为澄清剂而起作用的化合物,但另一方面,在玻璃熔融时致使常用的白金合金化。因此,含量的上限优选为8%,更优选为6%,最优选为4%。TiO₂成分是形成用于析出尖晶石类化合物的核的成分,是有助于提高玻璃的杨氏模数、低粘性化、及提高化学耐久性的成分。此外,是对原玻璃进行热处理而形成的主晶相的构成成分之一。但是,如果该成分的添加量超过10%,则玻璃的比重值增大,玻璃化变得更困难。因此,含量的上限优选为10%,更优选为9%,最优选为8%。另一方面,如果TiO₂成分的含量不足1%,则通过热处理不能形成核。因此,含量的下限优选为1%,更优选为2%,最优选为3%。ZrO₂成分也与TiO₂成分相同,是实现形成用于析出主晶相的核的作用的成分,是有助于提高玻璃的杨氏模数以及提高化学耐久性的成分,因此是可任意添加的成分。但是,如果该成分的添加量超过10%,则玻璃熔融时容易产生溶解残留物或ZrSiO₄(锆石),并且玻璃比重增大。因此,含量的上限优选为10%,更优选为8%,最优选为6%。B₂O₃成分有助于玻璃的低粘性化,并且可提高溶解性及成形性,因此可作为任意成分而添加。但是,如果该成分为8%以上,则难以满足机械特性,并且原玻璃容易分相使玻璃化变得困难。因此,含量的上限优选不足8%。更优选上限值为7%。R’₂O成分(R’为选自Li、Na及K中的一种以上),是导致玻璃低粘度化、成形性提高和均匀性提高的成分。并且,含有R’₂O成分时,通过在基板成形后交换表面上的碱金属离子,可以赋予附加特性。如果R’₂O成分的含量(Li₂O、Na₂O、及K₂O各成分的总量)不足2%,则无法得到上述效果。因此,含量的下限优选为2%。并且,信息记录媒体用基板,有必要限制碱成分从表面溶出,因此,为了使碱成分溶出量为必要最小值,R’₂O成分含量的上限优选为15%,更优选为13%,最优选为11%。对Li₂O、Na₂O、及K₂O各成分的含量分别进行说明。Li₂O成分是可任意含有的成分,但如果大量含有,则难以得到所需晶相,因此优选其上限为2%。Na₂O成分是可任意含有的成分,但如果大量含有,则难以得到所需晶相,因此其上限值优选为15%,更优选为12%,最优选为10%。K₂O成分是可任意含有的成分,但如果大量含有,则难以得到所需晶相,因此其上限值优选为10%,更优选为8%,最优选为5%。CaO成分是有助于玻璃的低比重化和提高杨氏模数的成分,是对玻璃的低粘性化也有效的成分,因此可以作为任意成分添加。但是,如果CaO成分超过15%,则原玻璃的比重增大而难以得到所需玻璃。因此,含量的上限优选为15%,更优选为12%,最优选为9%。BaO成分、SrO成分作为提高玻璃的低粘性化和化学耐久性、提高机械强度的有效成分,是与MgO、CaO等具有相同作用的成分,但另一方面,是具有增加玻璃比重倾向的成分。因此,各自含量的上限优选为5%,更优选为4%,最优选为3%。P₂O₅成分具有抑制玻璃裂化扩散的效果,因此是有助于提高维氏硬度的成分。并且在有助于低粘性化的同时,通过与SiO₂共存可提高原玻璃的熔融及澄清性。为了得到这些效果,P₂O₅成分是可任意含有的成分。但是,如果过量添加该成分,则难以玻璃化,易发生失透、分相,因此含量的上限优选为7%,更优选为6%,最优选为5%。Gd₂O₃、La₂O₃、Y₂O₃、Nb₂O₅、Ga₂O₃、WO₃成分有助于玻璃的低粘性化、因杨氏模数的提高而引起的机械特性的增加、以及耐热性的增加,因此可以作为任意成分添加,但添加量增加也导致比重上升、原料成本上升。因此,这些成分中的一种以上的总量达5%即可。如果总量超过5%,则无法满足比重、杨氏模数和比刚性率。因此,这些成分的总量的上限优选为5%,更优选为4%,最优选为3%。作为玻璃的着色成分所使用的V、Cu、Mn、Cr、Co、Mo、Ni、Te、Pr、Nd、Er,Eu、Sm等成分,其添加可以达到以下目的:利用由这些成分引起的荧光特性鉴别玻璃的种类,以防止在制造场所等与其它种类的玻璃混合。但是,这些成分会导致比重增加、原料成本增加、以及玻璃形成能力下降。因此,这些成分中的一种以上的总量达5%即可。因此,以氧化物基准计,这些成分的总量的上限优选为5%,更优选为4%,最优选为3%。[玻璃类材料(2)]玻璃类材料(2)是含有SiO₂成分、Al₂O₃成分及R’₂O成分的非晶形玻璃。SiO₂成分是为了形成玻璃网状结构、提高化学稳定性或实现低比重化所必须含有的成分。SiO₂的量不足55%时,得到的玻璃缺乏化学耐久性,并且随着其它成分含量的增加比重逐渐增大。因此,SiO₂含量的下限优选为55%,更优选为57%,最优选为58%。并且,如果超过80%则随着粘性的增加,溶解和加压成形容易变得困难,因而材料的均匀性、澄清效果容易降低。因此,含量的上限优选80%,更优选为78%,最优选为77%。Al₂O₃成分是有助于玻璃稳定化、提高化学耐久性的重要成分,其含量不足2%时缺乏该效果。因此,含量的下限优选为2%,更优选为2.5%,最优选为3.4%。并且,如果超过20%则反而溶解性、成形性及耐失透性变差,因而均匀性、澄清效果容易下降。因此,含量的上限优选为20%,更优选为19%,最优选为18.5%。R’₂O成分中的R’是指选自Li、Na、K中的一种以上碱金属,是为了提高玻璃的低粘度化、提高成形性、提高均质性和化学强化所必须的成分。另一方面,在用于信息记录媒体基板时,优选提高化学耐久性,即优选碱成分溶出量尽可能少。能够用于以垂直磁记录方式等为代表的下一代信息记录媒体的碱成分的溶出量,因此,根据需要含有的Li₂O成分、Na₂O成分、K₂O成分的一种以上总量,优选为20%以下、更优选为18%以下、最优选为17%以下。另一方面,这些一种以上的总量的下限优选为3%以上、更优选为5%以上、最优选为8%以上。P₂O₅成分是能够在对玻璃进行热处理形成晶化玻璃时作为成核剂而使用的成分,是可任意添加的成分。该成分是有助于低粘性化的同时通过与SiO₂共存来提高原玻璃的熔融性及澄清性的成分。然而,如果过量添加该成分则玻璃化变难,容易发生失透、分相。因此,含量的上限优选为3.0%、更优选为2.7%、最优选为2.6%。ZrO₂成分是有助于提高玻璃化学耐久性和物理特性的成分,是可任意添加的成分。但是,如果该成分的添加量超过10%,则玻璃熔融时容易产生溶解残留物或ZrSiO₄(锆石),并且玻璃比重增大。因此,含量的上限优选为10%,更优选为8%,最优选为6%。B₂O₃成分有助于玻璃的低粘性化,并且可提高溶解性及成形性,因此可作为任意成分而添加。但是,如果该成分为15%以上,则原玻璃容易分相使玻璃化变得困难。因此,含量的上限优选不足15%。更优选上限值为12%,进一步优选上限值为10%。BaO成分、SrO成分是对提高玻璃的低粘性化和化学耐久性有效的成分,是可添加的任选成分,但如果过量添加则玻璃比重增大。因此,为了使BaO成分或者SrO成分的各自含量形成与比重适合的值,BaO成分或者SrO成分含量的上限值优选为15%,更优选为14%,最优选为13%。MgO、CaO、ZnO成分是对玻璃的低粘性化有效的成分,因此是可添加的任选成分。但是,如果MgO超过20%、CaO超过20%、或者ZnO超过20%,则原玻璃容易发生失透。因此,这些成分含量的上限值,MgO为20%、CaO为20%、ZnO为20%,更优选的上限值MgO为15%、CaO为15%、ZnO为15%,进一步优选的上限值,MgO为8%、CaO为10%、ZnO为10%。TiO₂成分是有助于提高玻璃的低粘性化及化学耐久性的成分,是可任意添加的成分。但是,如果该成分的添加量超过10%,则玻璃的比重值增高,玻璃化变得更困难。因此,含量的上限值优选为10%、更优选为8%、最优选为6%。Gd₂O₃、La₂O₃、Y₂O₃、Nb₂O₅、Ga₂O₃成分有助于玻璃的低粘性化、因杨氏模数的提高而引起的机械特性的增加、以及耐热性的增加,因此可以作为任意成分添加,但添加量增加也导致比重上升、原料成本上升。因此,这些成分中的一种以上的总量达15%即可。如果总量超过15%,则玻璃化及结晶化变得困难。因此,这些成分的总量的上限优选为15%,更优选为10%,最优选为8%。为了防止在制造场所等与其它种类的玻璃混合,可以添加作为玻璃的着色成分所使用的V、Cu、Mn、Cr、Co、Mo、Ni、Fe、Te、Pr、Nd、Er、Eu、Sm等成分。但是,这些成分会导致比重增加、原料成本增加、以及玻璃形成能力下降。因此,这些成分中的一种以上的总量达5%即可。因此,以氧化物基准计,这些成分的总量的上限优选为5%,更优选为4%,最优选为3%。为了均可在维持信息记录媒体用基板所要求的物理性质的同时得到高澄清效果,玻璃类材料(1)及(2)优选含有选自SnO₂成分和CeO₂成分中的一种以上成分作为主要的澄清成分。为了得到高澄清效果,以氧化物基准计,SnO₂成分或者CeO₂成分、或者两者总含量的下限优选为0.01%,更优选为0.1%,最优选为0.15%。另一方面,为了维持机械强度,且得到比重低、高澄清效果,并且增加直压时的重沸抑制效果,选自SnO₂成分及CeO₂成分中的一种以上成分的含量的上限,优选为1%,更优选为0.8%,最优选为0.6%。玻璃类材料(1)及(2)中,As₂O₃成分、Sb₂O₃成分、及Cl^-成分、NO^-成分、SO^2-成分、F^-成分,是作为澄清剂起作用的成分,但可能是对环境有害的成分,因此应该控制其使用。本发明的玻璃即使不含有As₂O₃成分、Sb₂O₃成分,也可得到澄清效果,当添加这些成分和本申请的澄清剂成分时,澄清剂之间会相互抵消澄清效果。本发明的玻璃类材料(1)及(2)优选不含有使研磨加工性变差、化学耐久性降低的结晶即镁橄榄石(Mg₂SiO₄)、顽火辉石(MgSiO₃)以及它们的固溶体。并且,本发明的玻璃基板,通过在表面设置压缩应力层,可得到进一步提高机械强度的效果。作为压缩应力层的形成方法,例如可列举:使压缩应力层形成前玻璃基板表面层存在的碱成分与粒子半径大于该碱成分的碱成分进行交换反应的化学强化法。此外还有对玻璃基板进行加热后急冷的热强化法、向玻璃基板的表面层注入离子的离子注入法。作为化学强化法,例如可列举在300~600°C的温度下,在含有钾或钠的盐、例如硝酸钾(KNO₃)、硝酸钠(NaNO₃)或者其复合盐的熔融盐中,浸渍0.1~12小时的方法。由此,基板表面附近的玻璃成分中存在的锂成分(Li⁺离子),通过在离子半径大于锂成分的碱成分即钠成分(Na⁺离子)或者钾成分(K⁺离子)之间发生交换反应,或者基板表面附近的玻璃成分中存在的钠成分(Na⁺离子)通过在离子半径大于钠成分的碱成分即钾成分之间发生交换反应,引起晶化玻璃的容积增加,因此在玻璃基板的表面层中产生压缩应力。从而导致作为冲击特性指标的环弯曲强度(环曲げ強度)增加。对热强化法没有特殊限定,例如可列举将玻璃基板加热至300°C~600°C后,进行水冷和/或空气冷却等急速冷却的方法。由此,可以通过玻璃基板的表面与内部的温度差形成压缩应力层。另外,通过与上述化学处理法组合,可以更有效地形成压缩应力层。本发明的信息记录媒体用玻璃基板,更具体而言,可通过以下方法制造。[准备板状玻璃类材料的工序]首先,将氧化物、碳酸盐、硝酸盐等原料混合以含有上述组成范围的玻璃构成成分,然后利用使用了白金、石英等坩埚的常用溶解装置,在使玻璃熔融液的粘度为1.5~3.0dPa·s的温度下溶解。接着,将玻璃熔融液升温至使粘度为1.0~2.3dPa·s、优选1.2~2.2dPa·s的温度,引起在玻璃熔融液内产生气泡的搅拌效果,使玻璃熔融液的均匀度提高。然后,将玻璃熔融液降温至使粘度为1.8~2.6dPa·s、优选为2.0~2.5dPa·s的温度,进行在玻璃内部不产生气泡的消泡及澄清,然后维持此温度。在上述条件下使制作的熔融玻璃滴入下模具,通过用上下模具冲压熔融玻璃(直压),形成厚度0.7mm~1.2mm左右的盘状。具体而言,将加压成形模具的上模具的温度设定为300±100°C、优选为300±50°C,下模具的温度设定为玻璃的Tg±50°C、优选为Tg±30°C。此外,将用于将玻璃从坩埚引导至加压成形模具中的玻璃流出管的温度,设定为使玻璃粘度为2.0~2.6dPa·s、优选为2.1~2.5dPa·s的温度,在上述下模具中滴入特定量的玻璃,使上模具和下模具接近并冲压,得到盘状的板状玻璃。此外,采用对形成圆柱状的玻璃体进行切片的方法、将通过漂浮法制成的玻璃薄板剪切成圆形的方法等也可制造盘状玻璃。但是,从生产效率方面考虑,最优选通过直压法制造。接着,在使玻璃类材料形成晶化玻璃时,对得到的盘状玻璃进行热处理,生成结晶。该热处理优选在第二阶段的温度下进行。即,首先,通过在第一温度下的热处理进行核形成工序,在该核形成工序后,通过在高于核形成工序的第二温度下的热处理进行结晶生长工序。该结晶化工序中,从提高磁盘平坦度方面考虑,优选使盘状陶瓷制定位器与盘状玻璃交互叠积,用定位器夹住盘状玻璃(定位器的个数是玻璃个数+1个)。为了形成本发明析出结晶的粒径及结晶度,优选的热处理条件如下所述。第一阶段热处理的最高温度优选为600°C~750°C。也可以省略第一阶段的热处理。第二阶段的热处理的最高温度优选为650°C~850°C。第一温度的保持时间优选为1小时~10小时。第二温度的保持时间优选为1小时~10小时。[前加工工序]接着,通过向中央部分开孔、或者对外周部和内周部的端面进行研削等来进行开坡口及形状加工。[研削工序]研削工序是用于使期望的板厚、平坦度接近最终形状的加工工序,优选使用通过在上下平盘之间保持板状玻璃类材料并旋转平盘而使平盘和玻璃类材料进行相对移动的双面加工机。研削工序可以是至少一个阶段的工序,但优选为至少分为两个阶段的子工序,根据经过的阶段而使磨粒的支数变细。第一阶段的子工序,使用氧化铝等游离磨粒的砂挂法、使用金刚石颗粒的固定磨粒法、以及使用金刚石垫的方法均可。此时,使用金刚石颗粒的情况下,支数优选为#800~#1200,使用金刚石垫的情况下,金刚石磨粒的平均粒径优选为6μm~10μm。并且,如上所述,当省略粗研磨工序时,金刚石垫的金刚石磨粒的平均粒径优选为2μm~5μm。并且,第一阶段的子工序的加工压力优选为3kPa~6kPa、更优选为3.5kPa~5.5kPa。平盘的旋转速度优选为20~50rpm。每1cm²双面加工机的加工面,冷却液的供给量优选为0.5cc~1cc。研削工序也有仅包含一个阶段的情况,在最终的子工序中使用金刚石垫。通过至少在最终的子工序中使用金刚石垫,可以不使加工率变差而减小研削工序结束后的表面粗糙度Ra值,因此可缩短包含研削工序及研磨工序的加工时间。此时,金刚石垫的金刚石磨粒的平均粒径优选为2μm~5μm、更优选为2μm~4.5μm。并且,如上所述,当省略粗研磨工序时,在最终子工序中所使用的金刚石垫的金刚石磨粒的平均粒径优选为0.1μm以上且不足2μm、更优选为0.2μm~1.8μm。由此,可以省略第一阶段的研磨工序即粗研磨工序。并且,最终子工序的加工压力优选为3kPa~6kPa、更优选为3.5kPa~5.5kPa。平盘的旋转速度优选为20~50rpm。每1cm²双面加工机的加工面的冷却液的供给量优选为0.5cc~1cc。从综合研削工序的时间和研磨工序的时间的观点出发,为了可以缩短加工时间,最终子工序结束后的玻璃类材料的表面粗糙度Ra优选为0.001μm~0.085μm、更优选为0.003μm~0.085μm。[内外周研磨工序]研削工序后,根据需要对端面进行研磨处理,使端面的表面变得平滑。[研磨工序]研削工序或者内外周研磨工序后,对玻璃类材料的表面和背面的主表面进行研磨,使表面性状达到期望值。研磨工序可以是一个阶段的工序,优选分为两个阶段以上的子工序。如上所述通过控制金刚石垫的磨粒的平均粒径,可以省略第一阶段的工序即粗研磨工序。研磨工序也与研削工序同样,优选使用双面加工机,可以使用硅胶、氧化铈、氧化锆、氧化铝或者金刚石等游离磨粒,每经过一个阶段使磨粒的支数变细,从而使研磨垫从硬质变为软质。通过使研削工序结束后的表面粗糙度变得充分平滑,可以仅将研磨工序作为最终的子工序(精加工研磨工序)。第一阶段的子工序(粗研磨工序),优选使用研磨垫,一边供给含氧化铈的游离磨粒的研磨浆料一边进行加工。此时游离磨粒的平均粒径优选为0.3μm~1μm。研磨浆料中含有的游离磨粒的含量可以在5质量%~80质量%之间适当调整。优选使用在硬质发泡聚氨酯中分散了微细氧化铈磨粒的研磨垫、或者使用硬质发泡聚氨酯的研磨垫。研磨垫的硬度优选JISxa0Kxa06253中硬度为75~95、更优选为85以上95以下。并且,研磨浆料的pH值优选为9~13、更优选为10~13。在通常的玻璃类材料的研磨中,研磨浆料的pH值优选在中性区域附近的范围内进行。这是因为如果研磨浆料的pH值为强酸或强碱,则化学作用过强,导致玻璃类材料表面龟裂。但是,相对于本发明的玻璃类材料,通过使研磨浆料在上述pH值范围内,不但可得到平滑的表面性状,而且可得到较高的研磨加工率。特别是在将尖晶石类化合物作为主晶相的晶化玻璃中,可得到较高的研磨率。并且,第一阶段的子工序的加工压力优选为8kPa~15kPa、更优选为9kPa~13kPa。平盘的旋转速度优选为20~50rpm。在该工序中可得到0.3μm/分钟~1μm/分钟的加工率。研磨工序有时仅包含一个阶段,在最终的子工序(精加工研磨工序)中,优选使用研磨垫,一边供给含有氧化铈或者硅胶的游离磨粒的研磨浆料一边进行加工。研磨浆料中所含的游离磨粒的含量可在0.1质量%~60质量%之间适当调整。此时的游离磨粒优选分布在10nm~100nm的范围。研磨垫优选使用由软质(アスカ一C硬度优选为55~80)无纺布或仿麂皮(Suede)制成的研磨垫。并且,研磨浆料的pH值优选为1~5或者9~13,换言之,优选为不处于大于5且不足9的范围内。通过使该研磨浆料为上述pH值,可提高研磨工序的加工率,更容易得到非常平滑的表面性状。并且,最终子工序的加工压力优选为8kPa~15kP、更优选为9kPa~13kPa。平盘的旋转速度优选为20~50rpm。在该工序中可得到0.05μm/分钟~0.20μm/分钟的加工率。并且,可以准备两种pH值不同的研磨浆料,使子工序前后具有不同的pH值。例如,可以由研磨浆料的罐A供给pH值为3的研磨浆料,接着停止研磨浆料的供给而供给漂洗剂(rinsexa0agent)后,由罐B供给pH值为1的研磨浆料。通过该操作,可进一步提高加工率,并且可得到更平滑的表面性状。另外,以体积为基准,通过激光衍射散射法测定游离磨粒的粒度分布,将平均粒径作为其d50的值。研磨浆料的pH值可以通过向研磨剂浆料中加入硝酸、硫酸、乙酸、有机酸、氢氧化钠或者有机碱等酸溶液或者碱溶液进行调整。有时根据玻璃材料的组成、或者pH值相同也可根据溶液的种类来改变加工率,因此可以选择最适合的溶液。研磨工序中,在循环供给研磨浆料的情况下,受研磨泥浆的影响,有时研磨浆料的pH值会慢慢改变。这种情况下,为了调整pH值可以设置及时追加上述酸溶液或者碱溶液的装置。此时,优选利用来自pH值测定装置的信号来控制酸溶液或者碱溶液的追加。根据本发明,可以使最终子工序,即,精加工研磨工序结束后的表面粗糙度Ra为1.5ntent="drawing" img-format="tif" inline="yes" orientation="portrait" wi="45"/>以下。并且,通过在研磨后用酸或者碱溶液进行处理,可以减小表面粗糙度Ra的值。[实施例]接着,对本发明优选的实施例进行说明。[准备板状玻璃类材料的工序]将如表1所示组成的氧化物、碳酸盐原料混合,使用石英制或者白金制坩埚在约1250~1450°C的温度下将其溶解,分批充分溶解原料以防止发生溶解残留。接着,将溶解的原料升温至约1350~1500°C的温度后,再降温至1450~1250°C的温度,对玻璃内部产生的气泡进行消泡、澄清化。然后,维持温度流出特定量的玻璃,将上模具的温度设定为300±100°C、下模具的温度设定为Tg±50°C,使用上述上模具及下模具通过直压方式成形为直径约67mm、厚度0.95mm的盘状。接着,使用晶化玻璃作为玻璃类材料时,通过将盘状セラミツクス制定位器和得到玻璃盘交替层叠,在核形成温度670°C下保持3小时后,结晶生长温度750°C下保持7小时来析出结晶。[表1]ntent="drawing" img-format="tif" inline="no" orientation="portrait" wi="596"/>表1中各项表示晶化玻璃以及非晶形玻璃的组成(质量%)、加压成形后基板的比重、维氏硬度、杨氏模数、25°C~100°C时平均线膨胀系数(α)、结晶度(质量%)、结晶粒径(nm)以及最大结晶粒径(nm)。并且,平均线膨胀系数是指,按照JOGIS(日本光学硝子工业会规格)16-2003《光学玻璃的常温附近的平均线膨胀系数的测定方法》将温度范围从25°C变为100°C进行测定的值。采用阿基米德法测定比重,采用超声波法测定杨氏模数。维氏硬度用以下值来表示:使用相对面夹角为136°的正四棱锥形金刚石压头,向试验面施加金字塔形凹坑时的负荷(N),用该负荷(N)除以由凹坑长度计算出的表面积(mm²)而得的值。使用(株)明石制作所制微小硬度计MVK-E,在试验负荷4.90(N)、保持时间15(秒)下进行试验荷重。[前加工工序]然后,使用空心钻在中央部分开Φ18.7mm的孔,通过对外周部以及内周部的端面进行研削等来实施开坡口及形状加工。[研削工序]1)第一阶段的子工序使用スピ一ドフアム社制的16B双面加工机、以及#1000的金刚石颗粒或者金刚石垫中的一种,进行研削加工。另外,有时省略该第一阶段的子工序,仅将研削工序作为最终的子工序。2)第二阶段的子工序(最终子工序或者唯一的研削工序)使用スピ一ドフアム社制的16B双面加工机和金刚石垫,进行研削加工。[内外周研磨工序]研削工序后,对内外周端面的表面进行平滑研磨。[研磨工序]1)第一阶段的子工序使用スピ一ドフアム社制的16B双面加工机以及硬质发泡聚氨酯的研磨垫(硬度90),供给含游离磨粒的研磨浆料,进行第一阶段的研磨加工。另外,有时省略该第一阶段的子工序,仅将研磨工序作为最终的子工序。2)第二阶段的子工序(最终的子工序或者唯一的研磨工序)使用スピ一ドフアム社制的16B双面加工机以及仿麂皮制成的研磨垫,一边供给含游离磨粒的研磨浆料一边进行第二阶段的研磨加工。其它加工条件以及加工结果如表2至表5所示。表中,在金刚石颗粒的情形中表示颗粒的磨粒支数,在金刚石垫的情形中表示金刚石粒子的平均粒径。并且,表2至表5表示本发明的研削工序结束后所进行的研磨工序及其结果。[表2]ntent="drawing" img-format="tif" inline="no" orientation="portrait" wi="583"/>[表3]ntent="drawing" img-format="tif" inline="no" orientation="portrait" wi="575"/>[表4]ntent="drawing" img-format="tif" inline="no" orientation="portrait" wi="571"/>[表5]ntent="drawing" img-format="tif" inline="no" orientation="portrait" wi="575"/>